幾何掃掠面
一個(gè)或多個(gè)截面線沿一條或二條軌跡線掃掠生成曲面并拼合到雕塑模型上，如圖1所示。
▲圖 1 掃掠面
1、選擇命令“幾何→掃掠”。
2、掃掠處理：
a、點(diǎn)選一條或兩條軌跡上，放置于軌跡線選擇框中。
b、選擇一條或多條水平放置的截面線，放置于截面線選擇框中。
c、如果截面線數(shù)大于1，點(diǎn)擊―截面位置‖按紐然后順序指點(diǎn)截面位置。
d、設(shè)定參數(shù)，然后按“效果預(yù)覽”按紐，即可觀察到拼合到雕塑模型的掃掠面。
e、若需修改，修改參數(shù)后重新預(yù)覽，滿意后確定即可。
▲圖 3 掃掠參數(shù)設(shè)置
軌跡線：
一條或兩條軌跡線。
截面線：
一條或多條截面線。
截面位置：
如果有多條截面線，需順序
在主軌跡上指點(diǎn)截面位置。
效果預(yù)覽預(yù)覽
截面基點(diǎn)>>起點(diǎn)：
起點(diǎn)位于主軌跡上
截面基點(diǎn)>>中點(diǎn)：
中點(diǎn)位于主軌跡上
截面基點(diǎn)>>末點(diǎn)：
末點(diǎn)位于主軌跡上
截面基點(diǎn)>>左上：
左上位于主軌跡上
截面基點(diǎn)>>左中：
左中位于主軌跡上
截面基點(diǎn)>>左下：
左下位于主軌跡上
截面基點(diǎn)>>中上：
中上位于主軌跡上
截面基點(diǎn)>>中中：
中中位于主軌跡上
截面基點(diǎn)>>中下：
中下位于主軌跡上
截面基點(diǎn)>>右上：
右上位于主軌跡上
截面基點(diǎn)>>右中：
右中位于主軌跡上
截面基點(diǎn)>>右下：
右下位于主軌跡上
截面高度效果>>等高：
截面掃掠過程中，寬度有可能改變，高度不會發(fā)生變化。
截面高度效果>>相似：
截面掃掠過程中，高度及寬度等比例變化。
網(wǎng)格精度>>軌跡方向：
軌跡方向的精度。
網(wǎng)格精度>>截面方向：
截面方向的精度。
拼合方式：
規(guī)定掃掠面拼合到雕塑模型上的方式。
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